数字集成电路设计——MOS结构

时间:2024-03-26 16:10:19

一、MOS不同工作区间

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1. Vgs=0
阈值电压:数字集成电路设计——MOS结构

2. 电阻工作区 Vgs>VT
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3. 饱和区
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4. 沟长调制效应 —— Vds的影响
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5. 速度饱和 —— 沟道非常短的情况
载流子的速度因为散射效应(载流子之间的碰撞)趋于饱和

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6. 亚阈值情况
当Vg < VT但Vg > 0的时候,也是有很少的电流的。出现强反型意味着有足够载流子参与导电。

总结
手工分析模型:
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二、MOS管的电阻

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通过计算 Vdd到Vdd/2 过程中的平均电阻
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三、CMOS的动态特性

动态特性取决于本征寄生电容、互联线、负载引起的额外电容
本征寄生电容由基本的MOS结构、沟道电荷、源漏反向偏置pn结耗尽区

1. 结构电容 ——覆盖电容 GSO GDO
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2. 沟道电容 ——GCS GCD GCB
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3. 结电容
底板pn结 + 侧壁pn结
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总结:数字集成电路设计——MOS结构
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