文件名称：稳定线宽的过曝光控制 (2006年)
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更新时间：2024-06-12 12:27:16
工程技术 论文
在利用激光图形发生器制备微细图形时，为获得稳定的线条宽度，提出一种对薄胶层进行过曝光的技术。准直光束经物镜会聚后光斑的能量呈近似高斯分布，当胶层的曝光量阈值远离高斯型曝光量曲线的头部时，可以弱化线宽对实际曝光量或胶层曝光量阈值等变化的敏感度。从而提高线宽的稳定度。在涂有0.6μm薄胶的基片上。采用渐变曝光量的方法，利用激光束直写技术制取了一组短弧线，对线宽的测试结果表明，线宽与曝光量关系的实验性曲线和理论模型能较好地吻合，过曝光技术对线宽稳定度要求较高的器件，比如具有螺线波导的集成光学陀螺的制作有较重要价